微透鏡陣列作為一種重要的光學(xué)元件，具有體積小、重量輕、集成度高的特點，吸引了大量的目光。伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，光刻和微細加工技術(shù)的提高，自上世紀八十年代起，相繼出現(xiàn)了一系列嶄新的微透鏡陣列制作技術(shù)。由于透鏡陣列器件分為折射型微透鏡陣列和衍射型微透鏡陣列，它們在制作工藝也開發(fā)出不同的方法。

    折射微透鏡的制作方法由于折射微透鏡陣列器件在聚光、準(zhǔn)直、大面陣顯示、光效率增強、光計算、光互連及微型掃描等方面越來越廣泛的應(yīng)用，它的制作工藝和方法得到了日益深入的研究。

    已經(jīng)出現(xiàn)很多制備折射微透鏡陣列的方法，光刻膠熱回流方法、激光直寫方法、微噴打印法、溶膠一凝膠法、反應(yīng)離子刻蝕法、灰度掩模法、熱壓模成型法、光敏玻璃熱成型法刪等。下面主要介紹幾種主流的微透鏡陣列制作方法。

    然而利用這種技術(shù)制作的微透鏡陣列也存在諸多缺點：由于光刻膠對于基板材料存在浸潤現(xiàn)象，當(dāng)光刻膠在熔融狀態(tài)時與基板的附著力是一定的，那么當(dāng)熔融光刻膠最終成型以后微透鏡球面輪廓與基板之間存在浸潤角，使微透鏡的邊緣存在一定的曲率，而中間部分下陷。